В принципе, установка электронно-лучевой литографии подобна растровому электронному микроскопу. Но если в случае электронной микроскопии материалы лишь исследуются и не подвергаются изменениям, при литографии электронный пучок должен обладать плотностью энергии, достаточной для обработки материала. Требования к стабильности высокого напряжения сходны с требованиями в микроскопии.

В отличие от оптической литографии, электронный пучок способен создавать меньшие структуры, потому могут создаваться полупроводниковые приборы с более высокой плотностью упаковки. Фотошаблоны для оптической литографии также зачастую производятся с помощью электроннолучевой литографии.

Для научных исследований обычно используют электронный микроскоп, переделанный в систему электронной литографии, используя относительно дешевые аксессуары (< $100 тыс.). Такие переделанные системы создают ширину линии ~20 нм с 1990-х годов, в то время как специализированное оборудование позволят получать разрешение меньше 10 нм вплоть до 1 нм. Электронно-лучевая литография имеет более высокую стоимость, чем фотолитография, однако получаемое разрешение выше и при этом не требуется фотошаблона. Такую литографию используют для создания фотолитографических масок.

ООО Промтехсервис предлагает своим заказчикам модельный ряд новейших систем для электронно-лучевой литографии от компании FuG Elektronik GmbH, включающий в себя как лабораторные высокоточные, так и промышленные высокопроизводительные источники питания.

Принцип:

Пример:

HCV 23M - 6500: Высоковольтный источник питания для электронно-лучевой литографии

исходное напряжение: 0 – 6кВ, 0 – 500мкА

напряжение экстрактора: 0 – ±500В, макс

напряжение подавителя: 0 – ±500В, макс

волокно: 6 – 10В, макс. 2A